Absolute Ozone板式臭氧發生器，無論您需要用于臭氧水處理的工業臭氧發生器、用于工業的商用臭氧發生器，還是高級氧化系統、半導體ALD應用，我們都能為您提供完美的解決方案。
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臭氧濃度高
臭氧濃度可達到300mg/L，是半(ban)導體、藥物(wu)合成(cheng)、土壤處理(li)的理(li)想選擇。 -
風 冷
在+40C的溫度下也能很好(hao)地工 作，無(wu)需(xu)支付水，空調(diao)和空調(diao) 系統的費用。 -
耐高壓
20-80 PSIG可變壓力模型，是土(tu)壤修復應用或無法(fa)達到穩定氧(yang)氣壓力的理想選(xuan)擇。 -
體積小
臭氧產(chan)量(liang)在30-100g/h范(fan)圍內的 Absolute Ozone發生(sheng)器的尺寸 僅(jin)為35.5*38*17.8cm。
探索 ABSOLUTE OZONE? 先進的板式臭氧發生器
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工業臭氧應用
在 Absolute Ozone，我們(men)意(yi)識(shi)到在當今市場上實施(shi)先進技術的(de)重要(yao)性以(yi)及它如何使(shi)我們(men)的(de)客戶受(shou)益(yi)。Absolute Ozone? 臭氧(yang)發生器可以(yi)以(yi)高(gao)(gao)達(da) 350 g/Nm3 的(de)速率和高(gao)(gao)達(da) 12%（重量）的(de)濃度轉化氧(yang)氣。 -
臭氧實驗室和半導體
臭氧(yang)氣體具有(you)高(gao)反(fan)應性，可(ke)以有(you)效分(fen)解多種污染物。在半導體制造中，臭氧(yang)氣體用(yong)于(yu)通過(guo)將硅(gui)晶片暴露(lu)于(yu)基(ji)于(yu)臭氧(yang)的清潔溶液(ye)來(lai)去(qu)除硅(gui)晶片表面的污染物。溶液(ye)中的臭氧(yang)與污染物發生反(fan)應并將其分(fen)解，使表面清潔無(wu)雜質。 -
臭氧空氣和土壤修復
從氣味控制到(dao)土(tu)壤(rang)(rang)修復。臭氧技術可去除空(kong)氣中的病毒、細(xi)菌、孢子和許(xu)多其他污(wu)染物。最近，臭氧已被(bei)用于土(tu)壤(rang)(rang)修復，以清理(li)含(han)有各種土(tu)壤(rang)(rang)污(wu)染物的場地(di)。
